euv

Компания бросает вызов ASML – лидеру полупроводниковой индустрии. Китайская компания Shanghai Micro Electronics Equipment ( SMEE ) подала заявку на патент , который может изменить расстановку сил на рынке передовых литографических систем. Этот шаг особенно важен в свете действующих...

Новинка бьёт все рекорды в скорости изготовления электронных схем. 7 августа бельгийская научно-исследовательская организация IMEC , работающая в области наноэлектроники и цифровых технологий, объявила о значительных достижениях в производстве микросхем. Эти успехи были достигнуты в...

Местный гигант полупроводниковой отрасли активно работает над DUV-литографом, способным покорить современные техпроцессы. В конце этого года Китай планирует представить 28-нанометровую литографическую машину собственной разработки. Это станет прорывом в стремлении Пекина к технологической...