литография

Компания бросает вызов ASML – лидеру полупроводниковой индустрии. Китайская компания Shanghai Micro Electronics Equipment ( SMEE ) подала заявку на патент , который может изменить расстановку сил на рынке передовых литографических систем. Этот шаг особенно важен в свете действующих...

Исследователи преодолели литографические ограничения. Исследовательская группа под руководством профессора Джо Мун-Хо, директора Центра квантовых твердых тел Ван дер Ваальса при Институте фундаментальных наук ( IBS ), совершила значительный прорыв в области нанотехнологий. Ученые...