Вы используете устаревший браузер. Этот и другие сайты могут отображаться в нём некорректно. Вам необходимо обновить браузер или попробовать использовать другой.
Компания бросает вызов ASML – лидеру полупроводниковой индустрии.
Китайская компания Shanghai Micro Electronics Equipment ( SMEE ) подала заявку на патент , который может изменить расстановку сил на рынке передовых литографических систем. Этот шаг особенно важен в свете действующих...
Местный гигант полупроводниковой отрасли активно работает над DUV-литографом, способным покорить современные техпроцессы.
В конце этого года Китай планирует представить 28-нанометровую литографическую машину собственной разработки. Это станет прорывом в стремлении Пекина к технологической...